BV-10微电极坡口机磨斜边机微电极抛光仪磨针仪

BV-10优雅且易于使用，提供0.1至100 m之间的微量移液器尖端的精确倒角。独特的研磨板驱动系统无振动，可更好地控制倒角过程。使用Brown和Flaming描述的技术可以非常快速地完成斜切并产生一致的尖端直径，科学，1974年8月，第185卷。

细胞内记录电极可以受益于斜切，因为:

• 通过在电极上形成尖点来减小尖端直径
• 由于腔的横截面积较大，电极的电阻较低。

这极大地促进了穿透和保持非常小或困难的细胞。显微注射针头也受益于斜面，其通过促进以*小的损伤进入细胞，同时增强材料通过针头的流动。

基本的斜切系统包括一个固定的基座，光学平坦到半波(250 nm)，表面安装在一个沉重的底板上。这是作为一个轴承的磨料涂层玻璃研磨板，这也是平坦的半波。平坦研磨板通过磁场耦合到低振动、低速电机，以提供无摆动的平坦研磨表面。研磨板采用专有工艺制造，确保一致的研磨涂层。

一个2轴显微操作器将吸液管固定在斜面上，并控制其在研磨表面上的移动。斜角和前进速度是可调的。带有鹅颈管的LED灯通过为研磨板和移液器提供清晰的照明来增强斜切操作。

基本系统由两个您选择的研磨板、一个带支架的灯芯(用于湿式斜切)、基座油、脱脂液和手册组成。

有两个选项可用于监控倒角过程，一个40X立体显微镜和一个电极阻抗计。根据您的研究应用，这两个选项中的一个或两个可能是可取的。对于所有的微量移液器应用，摆动安装显微镜增强了您对移液器在研磨板上前进的控制，并允许观察斜面操作(除了在非常大的吸头的情况下，显微镜分辨率不足以观察实际斜面)。对于微电极应用，阻抗计用于监控斜切操作过程中的尖端电阻。该仪表为模拟设计，提供三种电阻范围(0-10、0-100、0-500兆欧)。测量在12 Hz下进行，以*小化电容对测量阻抗的贡献，并提供接近真实的DC电阻值。快速滚降用于降低50/60 Hz干扰，允许在实验室环境中操作而无需屏蔽。

常见应用BV-10

特征
• 无振动、磁耦合斜面
• 研磨表面光学平坦至半波(250纳米)
• 市售*精细的研磨表面
• 同步时钟电机确保稳定的转速
• 7磅钢底板增加了额外的阻尼
• 集成LED灯
• 鲁棒的显微操作器控制斜角和前进